Target ta' Sputtering Tantalum – Diska

Il-mira ta 'sputtering tat-tantalu hija prinċipalment applikata fl-industrija tas-semikondutturi u l-industrija tal-kisi ottiku.Aħna jimmanifatturaw speċifikazzjonijiet varji ta 'miri ta' sputtering tat-tantalu fuq talba ta 'klijenti mill-industrija tas-semikondutturi u l-industrija ottika permezz tal-metodu tat-tidwib tal-forn tal-vakwu EB.Billi attenta ta 'proċess ta' rolling uniku, permezz ta 'trattament ikkumplikat u temperatura preċiża ta' ttemprar u ħin, nipproduċu dimensjonijiet differenti tal-miri tat-tantalu sputtering bħal miri diska, miri rettangolari u miri rotatorji.Barra minn hekk, niggarantixxu l-purità tat-tantalu hija bejn 99.95% sa 99.99% jew ogħla;id-daqs tal-qamħ huwa taħt 100um, flatness huwa taħt 0.2mm u l-Ħruxija tal-wiċċ hija taħt Ra.1.6μm.Id-daqs jista 'jkun imfassal skond il-ħtiġijiet tal-klijenti.Aħna nikkontrollaw il-kwalità tal-prodotti tagħna permezz tas-sors tal-materja prima sal-linja tal-produzzjoni kollha u finalment inwasslu lill-klijenti tagħna sabiex niżguraw li tixtri l-prodotti tagħna bi kwalità stabbli u tal-istess kull lott.

Aħna qed nippruvaw nagħmlu l-almu tagħna biex ninnovaw it-tekniki tagħna, intejbu l-kwalità tal-prodott, inżidu r-rata ta 'utilizzazzjoni tal-prodott, innaqqsu l-ispejjeż, intejbu s-servizz tagħna biex nipprovdu lill-klijenti tagħna prodotti ta' kwalità ogħla iżda spejjeż ta 'xiri aktar baxxi.Ladarba tagħżel lilna, int se tikseb il-prodotti stabbli tagħna ta 'kwalità għolja, prezz aktar kompetittiv minn fornituri oħra u s-servizzi f'waqthom u effiċjenti tagħna.

Nipproduċu miri R05200, R05400 li jissodisfaw l-istandard ASTM B708 ​​u nistgħu nagħmlu miri skont it-tpinġijiet ipprovduti tiegħek.Filwaqt li nieħdu vantaġġi ta 'ingotti tat-tantalu ta' kwalità għolja tagħna, tagħmir avvanzat, teknoloġija innovattiva, tim professjonali, aħna fassalna l-miri ta 'sputtering meħtieġa tiegħek.Tista 'tgħidilna l-ħtiġijiet kollha tiegħek u aħna ddedikati fil-manifattura fuq il-bżonnijiet tiegħek.

Tip u Daqs:

ASTM B708 ​​Standard Tantalum Sputtering Mira, 99.95% 3N5 - 99.99% 4N Purità, Diska Mira

Kompożizzjonijiet kimiċi:

Analiżi Tipika: Ta 99.95% 3N5 - 99.99% (4N)

Impuritajiet metalliċi, ppm max bil-piż

Impuritajiet mhux metalliċi, ppm max bil-piż

Bilanċ: Tantalu

Daqs tal-qamħ: Daqs tipiku<100μm Daqs tal-qamħ

Daqs ieħor tal-qamħ disponibbli fuq talba

Flatness: ≤0.2mm

Ħruxija tal-wiċċ: <Ra 1.6μm

Wiċċ: illustrat